7月19日消息，中微公司发布了首次公开发行股票科创板上市公告书。公告显示，中微公司预计今年上半年营收同比增长55%至85%。

　　中微公司公告截图

　　中微公司表示，预计 2019 年 1-6 月实现营业收入 72,000至86,000 万元，同比增长55%至85%;预计实现归属于母公司股东的净利润 2,500至3,000 万元，预计扣除非经常性损益后归属于母公司股东的净利润为 2,200至2,600 万元，较 2018 年 1-6 月同比数据的-1,325.16 万元及-4,801.28 万元均实现由负转正。主要原因为 2019 年上半年逐步获得更多下游客户认可，加大了对公司设备的采购，推动了收入增长所致;随着公司营业收入规模扩大，公司的经营业绩显著提升。

　　上述 2019 年 1-6 月财务数据为公司初步核算数据，未经会计师审计或审阅，且不构成盈利预测。

　　中微公司主营业务经营情况

　　中微公司是一家以中国为基地、面向全球的半导体微观加工设备公司。中微公司聚焦用于集成电路、LED 芯片等微观器件领域的等离子体刻蚀设备、深硅刻蚀设备和 MOCVD 设备等关键设备的研发、生产和销售。

　　据介绍，自 2004 年成立，中微公司首先开发甚高频去耦合等离子体刻蚀设备 Primo D-RIE，到目前为止已成功开发了双反应台 Primo D-RIE、双反应台 Primo AD-RIE 和单反应台 Primo SSC AD-RIE 三代刻蚀设备，涵盖 65 纳米、45 纳米、32 纳米、28 纳米、22 纳米、14 纳米、7 纳米和 5 纳米微观器件的众多刻蚀应用。

　　2012 年中微公司开发电感性等离子体刻蚀设备，到目前为止已成功开发单反应台 Primo nanova 刻蚀设备，并同时开发双反应台电感性等离子体刻蚀设备，主要涵盖 14 纳米以下微观器件的刻蚀应用。

　　中微公司还针对集成电路先进封装和 MEMS 传感器产业发展的市场需求，开发了广泛应用于这些领域的电感性等离子体深硅刻蚀设备。

　　薄膜沉积设备方面，2010 年中微公司开始开发用于 LED 器件加工中最关键的设备——MOCVD 设备。公司已开发了三代 MOCVD 设备，该设备是一种高端薄膜沉积设备，主要用于蓝绿光 LED 和功率器件等生产加工，包括第一代设备 Prismo D-Blue、第二代设备 Prismo A7 及第三代更大尺寸设备。

　　首次公开发行股票的情况

　　发行数量：53,486,224 股;发行价格：29.01 元/股。

　　市盈率：

　　133.91 倍(每股收益按照 2018 年度经审计的扣除非经常性损益后归属于母公司股东净利润除以本次发行前总股本计算);

　　153.68 倍(每股收益按照 2018 年度经审计的扣除非经常性损益前归属于母公司股东净利润除以本次发行前总股本计算);

　　148.79 倍(每股收益按照 2018 年度经审计的扣除非经常性损益后归属于母公司股东净利润除以本次发行后总股本计算);

　　170.75 倍(每股收益按照 2018 年度经审计的扣除非经常性损益前归属于母公司股东净利润除以本次发行后总股本计算)。

　　市净率：

　　6.60 倍(每股净资产按 2018 年 12 月 31 日经审计的归属于母公司股东权益除以本次发行前总股本计算)。

　　4.36 倍(每股净资产按 2018 年 12 月 31 日经审计的归属于母公司股东权益加上本次发行筹资净额之和除以本次发行后总股本计算)。